Si Foundry

部分工程委託

ウエハ 6インチ シリコン(JEITA)
エピタキシャル n型エピタキシャル
成膜工程 減圧CVD、常圧CVD、プラズマCVD
SiO2,TEOS,BPSG,SiN,ポリSi などの成膜
熱酸化 縦型炉/横型炉
メタル スパッタ:Al-Cu、Ti、TiN
CVD:W
不純物拡散 P、B、As、Sb(SOG)
フォトリソグラフィ i線ステッパー
平坦化 CMP:TEOS膜のみ可、 SOG層間膜
その他 ポリイミド膜(POC)、トレンチエッチング ・・・など

部分工程委託も行っております。いずれも6インチライン用装置でございます。